理论原理
晶体三极管(以下简称三极管)按材料分有两种:锗管和硅管。而每一种又有npn和pnp两种结构形式,但使用最多的是硅npn和锗pnp两种三极管,(其中,n是负极的意思(代表英文中negative),n型半导体在高纯度硅中加入磷取代一些硅原子,在电压刺激下产生自由电子导电,而p是正极的意思(positive)是加入硼取代硅,产生大量空穴利于导电)。两者除了电源极性不同外,其工作原理都是相同的,下面仅介绍npn硅管的电流放大原理。
对于npn管,它是由2块n型半导体中间夹着一块p型半导体所组成,发射区与基区之间形成的pn结称为发射结,而集电区与基区形成的pn结称为集电结,三条引线分别称为发射极e (emitter)、基极b (base)和集电极c (collector)。如右图所示
当b点电位高于e点电位零点几伏时,发射结处于正偏状态,而c点电位高于b点电位几伏时,集电结处于反偏状态,集电极电源ec要高于基极电源eb。
在制造三极管时,有意识地使发射区的多数载流子浓度大于基区的,同时基区做得很薄,而且,要严格控制杂质含量,这样,一旦接通电源后,由于发射结正偏,发射区的多数载流子(电子)及基区的多数载流子(空穴)很容易地越过发射结互相向对方扩散,但因前者的浓度基大于后者,所以通过发射结的电流基本上是电子流,这股电子流称为发射极电流子。
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